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小型金属EB
设备名称:小型电子束蒸发台(Metal E-beam Evaporator)
设备型号:DE400
技术指标
基板尺寸:2、4、6英寸晶圆,2英寸晶圆可以同时放置5片,6英寸1片;
基板加热:最高温度500°C,控温精度1°C;
等离子清洗:气体Ar,最大功率100W;
系统极限真空:2*10-8 torr;
蒸发源:8*7cc坩埚;
可蒸发金属:Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等
膜厚均匀性:≤±3%;
应用领域:电子束蒸发台主要应用于金属薄膜制备,如半导体器件金属电极,金属互连线,金属反射镜等。

                                        

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