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金属EB
设备名称:金属电子束蒸发台(Metal E-beam Evaporator)
设备型号:PEVA-600E
技术指标:
基板尺寸:2、4、6英寸,2英寸可放67片;
基板加热:最高温度250℃,控温精度1℃;
系统极限真空度: 2×10-7 torr;
蒸发源数量:6个坩埚;
可蒸发金属:Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等
膜厚均匀性:≤±5%;
应用领域:电子束蒸发台常见于镀膜工艺流程,其原理是利用加速后的电子能量打击材料标靶,使材料标靶蒸发升腾,最终沉积到目标基底上。主要用于Ti、Al、Ni、Au、Pt、Ag、Ni等金属的镀膜,一炉可以依次蒸镀6种不同金属,可以蒸镀高熔点金属Pt、W等。

                                        

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