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椭偏仪
设备名称:椭偏仪(Ellipsometer)
设备型号:UVISEL
设备厂商:日本HORIBA
设备介绍:
    基本原理:偏振光在介质的表面反射时,其偏振状态将发生变化,通过测量这些变化并建模分析,可以获得介质材料的光学常数和结构参数信息。
主要特点:
    ● 高精度,可用于检测超薄薄膜(nm)
    ● 无损检测,无需制样
    ● 无盲区(Ψ=0-90°, Δ=0-360°)
    ● 光谱范围 :210-880nm
    ● 适用于透明、半透明的碎片或2、4、6英寸薄膜
应用领域:
    可应用于:光电子、冶金、纳米材料、高分子薄膜、生物化学等领域。
    ● 光学常数测量,包括折射率n、消光系数k、复数介电函数ε、透过率T、反射率R等
    ● 多层膜、多孔材料、高分子薄膜等特殊结构分析
    ● 各类薄膜、界面层的膜厚、表面粗糙度测量
    ● 薄膜禁带宽度、激子束缚能测量
    ● 材料各向异性分析
 

 

ITO-on-BK7(玻璃)椭偏光谱

 

 

 

 

 

ITO-on-BK7(玻璃)椭偏光谱建模分析

 

                                        

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