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光致发光扫描系统

设备名称:光致发光扫描系统(PL mapping)
设备型号M-200
设备厂商:韩国ECOPIA

设备介绍:

    基本原理:通过对样品不同位置区域荧光光谱的采集和分析,获得材料发光的区域分布图,从而对材料发光均匀性和膜厚均匀性进行有效分析。 
    光致发光(PL)是一种辐射复合效应。在一定波长光源的激发下,电子吸收激发光子的能量,向高能级跃迁而处于激发态,激发态是不稳定的状态,会以辐射复合的形式发射光子向低能级跃迁,产生荧光。

主要特点:

    ● 适用于2、4、6英寸样品;
    ● 可进行PL测试、膜厚及反射率的测试
    ● 激发光源:405nm激光器,最大输出功率100mW,功率连续可调
    ● PL荧光光谱探测范围:350-800nm   光谱分辨率:光谱分辨率≤0.3nm
    ● 膜厚测试范围:1-19μm 

    ●  膜厚分辨率:5%

应用领域:

    主要应用于LED晶圆发光均匀性检测、膜厚均匀性检测、以及托盘设计。
    ● LED晶圆发光均匀性检测
    ● 膜厚均匀性检测
    ● 托盘设计
    ● 晶圆PL荧光光谱对比

 

GaN Mapping


 

GaN单点PL谱


 

托盘设计



                                        

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