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芯片设备

Chip equipment

光刻机


设备名称:光刻机

设备厂商:美国ABM公司

工作原理:将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移        到涂有光刻胶的晶片上。

用途:光刻胶的图形化


技术指标:

1.紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调

2. 样品尺寸:6英寸及以下

3. 分辨率:接触曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm

4.对准精度:<1μm



可以实现6英寸wafer光刻,光刻均匀性小于±3%(大尺寸图形);1μm线条均匀性小于± 5%